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一句話總結：光焱科技針對汎銓科技提出的2億元專利侵權指控，發布嚴正聲明，強調雙方在「光損檢測」技術上存在顯著的世代差異，駁斥侵權說法並譴責同業透過媒體阻礙產業創新。

核心要點

1. 光焱科技（7728）澄清，截至目前為止，尚未收到汎銓科技（6830）就其I870008B號「光損偵測裝置」發明專利及2億元求償的任何法院訴訟函件。
2. 光焱嚴正譴責汎銓在未經完整司法程序前，即透過媒體單方面發布資訊，此舉被視為阻礙產業創新的競爭手段。
3. 雙方在檢測技術上存在顯著差異：汎銓的專利基礎是傳統「金相顯微鏡」的光損量測方案，而光焱則採用次世代更先進的「高光譜成像技術感測模組」進行矽光子光學檢測。
4. 光焱強調，將傳統金相顯微鏡專利套用至其新世代高光譜影像感測模組，在技術上是完全站不住腳的，且光損檢測僅是光焱多功能模組的其中一項應用。
5. 針對汎銓宣稱其專利曾挺過17項舉發，光焱反駁指出，該舉發案不成立是因為當時舉發人提出的更先進技術，被主管機關認定與汎銓的傳統金相顯微鏡技術「無關」，這反而證明了汎銓專利僅保障其自身傳統技術。
6. 光焱重申，「專利」保障的是特定的技術實施手段，而非將「光損檢測」一詞註冊為商標來壟斷市場，因此汎銓不能無限上綱地認定所有具備該功能的設備皆侵權。
7. 光焱深耕光學與光電子晶片檢測領域已長達16年，面對此次不實指控，公司營運、業務及設備出貨皆正常進行，財務業務不受影響，並將積極配合司法程序捍衛權益。

一句話結論

光焱科技堅信其高光譜成像技術與汎銓的傳統金相顯微鏡技術存在本質差異，駁斥侵權指控，並強調將透過法律途徑捍衛公司在矽光子晶片檢測領域的創新與市場地位。