一句話總結：光焱科技於 2026 年 3 月 26 日嚴正駁斥汎銓科技提出的專利侵權指控，強調其「高光譜成像技術感測模組」為次世代創新，與汎銓採用傳統「金相顯微鏡」的「光損偵測裝置」專利存在顯著技術世代差異，並未收到法院訴訟函件，譴責同業未經司法程序即透過媒體散布不實資訊，堅稱其自主研發技術絕無侵權疑慮。
核心要點
- 光焱科技於 2026 年 3 月 26 日嚴正駁斥汎銓科技單方面宣稱其侵害第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利，並強調公司迄今未收到任何法院訴訟函件。
- 光焱對於汎銓在尚未經完整司法程序前，即透過媒體發布資訊的行為深感遺憾並嚴正譴責，認為此舉阻礙產業創新，實屬不當競爭手段。
- 光焱科技指出，雙方在檢測技術上存在顯著的世代差異：汎銓專利基於傳統「金相顯微鏡」組成方案，而光焱則採次世代、更先進的「高光譜成像技術感測模組」為核心技術。
- 光焱強調，汎銓所宣稱的專利僅保障其傳統技術，「專利」保障的是特定的技術實施手段，而非將「光損檢測」一詞註冊為商標來壟斷市場，光焱的高光譜成像系統與汎銓技術截然不同，自然毫無侵權疑慮。
- 光焱科技以國際光學大廠蔡司（Zeiss）近期宣佈進軍光損檢測領域為例，反問若依汎銓邏輯，難道蔡司也構成侵權，此舉凸顯對方說法在產業技術與法律邏輯上皆有失偏頗。
- 深耕光學與光電子晶片檢測領域長達 16 年的光焱科技，所有核心產品均為團隊自主研發，極度尊重智慧財產權；面對此次指控，公司營運、業務及設備出貨皆正常進行，財務業務不受影響。
- 光焱科技表示，後續將積極配合司法程序進行答辯，以捍衛公司、客戶及全體股東之合法權益，並期待透過公正程序釐清事實。
一句話結論
光焱科技堅信其高光譜成像技術為獨立創新，與汎銓科技的傳統專利毫無關聯，此次專利爭議實為不同技術世代間的誤解。面對同業的非議，光焱將透過司法途徑釐清真相，確保公司權益不受損害，並持續推動產業技術進步。
