汎銓科技於 25 日正式向智慧財產及商業法院提起訴訟，指控同業光焱科技侵犯其獨家「光損偵測裝置」發明專利（中華民國第 1870008 號），並要求高達新台幣 2 億元的損害賠償。此舉凸顯汎銓捍衛其在半導體與矽光子領域關鍵智慧財產權的決心，避免台灣核心技術外流，確保產業競爭優勢。
汎銓科技捍衛「光損偵測裝置」專利，訴求兩億賠償
根據汎銓科技 25 日發布的聲明，公司發現同業光焱科技涉嫌侵犯其「光損偵測裝置」專利相關設備及技術方案，因此正式循法律途徑，向智慧財產及商業法院提出訴訟。汎銓主張，光焱科技侵害其所擁有之中華民國第 1870008 號「光損偵測裝置」發明專利，並請求法院判令相關被告公司及人員立即停止侵權行為。
汎銓強調，台灣科技產業在全球享有「護國群山」美譽，汎銓更是專攻半導體核心高階先進製程材料檢測分析與 AI 暨矽光子檢測等領域，具有全球領導能力。如今，公司在全球領先的關鍵技術專利受到侵權及損害，不得不採取正式法律途徑，尋求對違法行為的合理保護及賠償，以避免台灣最重要的科技產業技術面臨肆意損害並外流至其他國家的可能疑慮。
為有效遏止光焱科技持續侵害智慧財產權，並防範可能引發的技術及重要機密外洩等更嚴重事件，汎銓考量台灣整體科技產業的價值與重要性，以及維護公司全體利害關係人的權益，基於其長期投入研發所建立的競爭優勢，訴請法院判決損害賠償新台幣 2 億元。此舉旨在樹立台灣科技產業對於專利與營業秘密採取最高標準捍衛的決心與努力。
專利技術核心價值與全球佈局
汎銓科技指出，其自主研發的「光損偵測裝置」技術已成功取得台灣及日本的發明專利，並於近期進一步正式獲得美國發明專利，證明其技術的獨創性與重要性。「光損偵測裝置」技術能夠精準量測並定位矽光子元件在光傳輸過程中的損耗位置，對於矽光子晶片、光電整合模組及高速光通訊元件的研發驗證與量產測試，皆具有不可或缺的關鍵技術價值。
在市場應用方面，汎銓憑藉其獨家光損定位技術，已成功卡位成為整個矽光子故障分析（FA）的「入海口」。若無法精確找到光損位置，後續的分析工作便無從展開。據業界調查，汎銓目前在分析端的市佔率高達 90% 以上，幾乎呈現寡占狀態。其廠內建置的三台檢測設備，已分別為重要客戶及美國最大 AI 公司提供服務長達六年與兩年，顯示技術成熟且深獲客戶肯定。
強化專利護城河：過往挑戰與未來策略
汎銓董事長柳紀倫指出，公司專利的穩固性已通過考驗。他提到，2025 年 6 月曾有另一家同業向專利局提出 17 項舉證，試圖撤銷汎銓的專利。然而，經過嚴謹判定後，專利局已於 2025 年 11 月確認汎銓的專利依然有效存在，這顯示公司的專利護城河「非常強壯」，足以抵禦外部挑戰。
柳紀倫表示，公司已結合先進材料分析、AI 晶片分析平台與矽光子量測技術，逐步建立完整的矽光子檢測與測試設備技術平台。看好 AI 伺服器、高速資料中心及先進封裝對光互連需求大幅成長下，矽光子技術被視為下一世代高頻寬、低功耗資料傳輸的重要核心技術之一。
展望未來，汎銓不僅將持續鞏固研發端的分析服務，更規劃積極進軍設備銷售市場。預計於 2026 年底舉辦機台發表會，並於 2026 年底至 2027 年間正式推出量產端適用的矽光子測試設備「MSS HG」。為符合商用標準，新機台正進行外觀與機構的升級，包含採用黑色鋼琴烤漆外殼、優化內部理線以利後續維護，並將導入自製的可升降載台，以滿足 12 片矽光子晶片自動測量與 CPO 降階等多元測試需求。柳紀倫進一步強調，未來無論是引進日本或美國的設備，只要侵犯其核心專利，不論對方公司規模多大，汎銓皆會採取法律行動提告到底，堅定捍衛公司的智慧財產權。
數據背後的啟示：台灣科技業智慧財產權保衛戰
汎銓科技此次對光焱科技提起的專利侵權訴訟，不僅僅是單一企業間的法律糾紛，更深層次地反映了台灣半導體與 AI 產業在全球競爭中，對於核心技術智慧財產權保護的重視與決心。在國際科技競賽日益激烈的背景下，確保關鍵技術不被非法複製或外流，是維護國家產業競爭力與經濟安全的基石。汎銓透過法律行動，向業界傳達了明確的訊號：任何侵犯智慧財產權的行為都將面臨嚴肅的法律追究，這對於鼓勵創新、保障研發投入具有指標性意義。此舉將有助於強化台灣科技產業的整體防禦能力，確保其在全球供應鏈中的領先地位。
