根據中央社報導,備受各界矚目的「台積電2奈米製程商業機密洩漏案」將於4月27日由台灣智慧財產權法院作出判決。此案的核心,是台積電前工程師陳力銘及現任工程師吳平春、戈一平等人,被控涉嫌洩漏國家核心關鍵技術,檢方依《國家安全法》與《商業機密法》提起公訴,並對涉案人員求處7至14年重刑,此案不僅牽動半導體龍頭的技術保密,更凸顯台灣在維護國家經濟安全上的嚴峻挑戰。
核心關鍵技術遭竊始末與涉案情節
本案緣起於2025年,台積電察覺內部機密資訊有異,並於同年7月8日提出告訴。根據台灣高等檢察署智慧財產檢察分署的新聞稿,在押被告陳力銘曾任職於台積電12廠的良率部門工程師,對台積電的各項機密資訊保護措施與供應商保密協定瞭若指掌。離職後,他轉至台積電的半導體製造設備供應商東京威力科創股份有限公司(東京威力公司)行銷部門任職。
台灣高等檢察署智慧財產檢察分署新聞稿指出,陳力銘為替東京威力公司爭取成為台積電先進製程更多站點設備供應商,多次利用與台積電在職員工吳平春、戈一平的舊誼,央請他們提供業務上可接觸到的台積電國家核心關鍵技術營業秘密檔案或營業秘密,供陳力銘拍攝重製。
這些被竊取的機密檔案,旨在協助東京威力公司檢討改善蝕刻機台的表現,以爭取成為台積電2奈米製程蝕刻站點的量產機台供應商資格。此行為不僅直接侵害台積電的商業利益,更涉及國家核心關鍵技術的外洩,對台灣在全球半導體產業的領先地位構成潛在威脅。
國安與商業機密法雙重訴追的法律意義
此案的法律追訴層級之高,在於檢方不僅依《商業機密法》對涉案人員提起訴訟,更援引了《國家安全法》。這顯示司法機關將此類高科技產業的營業秘密視為國家安全的重要環節。
- 《國家安全法》第八條第二項: 針對國家核心關鍵技術營業秘密的「域外使用罪」,此罪名旨在遏止台灣高科技技術非法流出境外,對國家產業競爭力造成損害。
- 《營業秘密法》第十三條之二: 針對「意圖域外使用而竊取營業秘密罪」,強調竊取行為若帶有將技術帶往境外使用的意圖,將面臨更嚴重的刑責。
- 《營業秘密法》第十三條之一: 針對單純的「竊取營業秘密罪」。
檢方對陳力銘、吳平春及戈一平三人,分別以違反上述罪嫌提起公訴,並求處7至14年的重刑,其嚴厲程度反映了國家對於保護核心技術的決心。這不僅是對個人行為的懲罰,更是向所有潛在的竊密者發出明確警告:竊取台灣的關鍵技術將付出沉重代價。
智慧財產權保護:半導體產業的關鍵防線
台積電作為全球晶圓代工龍頭,其2奈米製程代表著半導體技術的最前沿。這起洩密案凸顯了高科技產業在智慧財產權保護上面臨的巨大挑戰。企業不僅需建立嚴密的內部防護機制,更需仰賴健全的法律體系來遏止技術外流。
檢察官於2025年7月25至28日執行此案的偵查,並於8月27日偵查終結對陳力銘、吳平春及戈一平三人提起公訴,顯示司法機關對此類案件的重視與迅速反應。
這起案件也提醒所有與高科技產業合作的供應商及員工,必須嚴格遵守保密協定與法律規範。任何意圖透過不正當手段獲取技術的行為,都將面臨法律的嚴懲。對於台灣整體半導體生態系而言,確保智慧財產權的完整性,是維持國際競爭力與國家經濟安全的基石。
數據背後的啟示
台積電2奈米製程洩密案的判決結果,無疑將成為台灣智慧財產權保護史上的重要里程碑。此案不僅關乎個別工程師的法律責任,更深層次地反映出國家在面對全球高科技競爭時,如何透過法律手段捍衛其核心產業優勢。強化國家核心關鍵技術的保護,已是確保台灣在全球半導體供應鏈中不可取代地位的當務之急。這也將促使企業與政府共同審視現行防護措施,進一步築牢技術安全的防線。




